DuoPigatron 기반 양성자 가속기

 

교내 양성자 가속기는 이온 빔 발생을 위해 필라멘트 방전(Pig discharge)과 플라즈마 방전을 모두 이용한 DuoPigatron 이온 소스를 활용한다. DuoPigatron 이온 소스에서 주입된 수소 가스가 플라즈마 상태가 되면 양성자를 높은 전압으로 밀어내어 정전식 가속하는 장치이다. 이온 빔 조사를 통해 반도체 불순물 도핑, 시료의 표면 물성을 개선할 수 있다. 

 

 

 

이온원:        DuoPigatron 방식을 이용하여 양성자를 발생시키는 장치

가속관:        전압 차이를 이용하여 입자를 가속시키는 장치(정전식 가속관) 

Faraday Cup:  발생된 양성자 빔의 전류를 측정하는 장치

챔버:           시료를 로딩하고 이온 빔을 조사하는 장치

컨트롤:        양성자 가속기를 운용하기 위해 필요한 전압을 제어